1) Peamised etapid volframi räbu on raud/mangaanoksiidid, silikaadid ja ränidioksiid jne ning sisaldavad mõningaid amorfseid aineid. Tantaal ja nioobium on peamiselt mähitud räni ja mangaani sisaldavasse faasi.

2) Volframräbu silikaati saab eemaldada lahjendatud vesinikkloriidhappega. Kui vesinikkloriidhappe esialgne kontsentratsioon on 6%, vedeliku ja tahke aine suhe on 6:1, temperatuur on 25 ℃ ja reaktsiooniaeg 5 minutit, võib kuivatuskiirus ulatuda üle 70%, raua eemaldamise kiirus ja mangaan on 40% ja 60%, tantaali ja nioobiumi kadu on umbes 10% ja ülejäänud räni kuivatusräbus esineb kvartsina.

3) Volframräbu raua ja mangaani komponendid saab kontsentreeritud vesinikkloriidhappega sügavuti eemaldada ning temperatuur ja reaktsiooniaeg mõjutavad oluliselt tantaali ja nioobiumi kadu. Tingimustes, kus vesinikkloriidhappe kontsentratsioon on 22%. reaktsiooniaeg 15 min, reaktsioonitemperatuur 90 ℃ ja happe annus kui teoreetiline annus, raua ja mangaani eemaldamise määr võib ulatuda vastavalt 98.01% ja 98.71%ni ning tantaali ja nioobiumi taastumiskiirus on vastavalt 92.67% ja 90.13%. , saavutades hea tantaali ja nioobiumi rikastamise efekti. Rikastatud räbu põhikoostis on Si O2.

4) Tantaali ja nioobiumi taaskasutamise määrad olid 86.57% ja 82.48% ning tantaali ja nioobiumi sisaldus ulatus vastavalt 2.81% ja 9.23%ni pärast volframijäägi haruldase vesinikkloriidhappe ning kontsentreeritud vesinikkloriidi deferrali ja mangaani kuivatamist. hape.