teadmised

ASTM B708 ​​Tantalum Round Target 99.95% puhtusega

2024-01-05 18:00:06

1 tantaalplaat/leht

2 Puhtus: Ta≥99.95%

3 Tihedus: 16.65g/cm3

4 Sulamistemperatuur: 3017 ℃

5 Standard: ASTM B708

6 Grade: RO5200,Ta1, RO5252(Ta-2.5W),RO5255(Ta-10W)

7 Füüsikalised ja keemilised omadused

TOOTE TÜÜP

Tantaalleht

Materjali koostis

RO5200, Ta1,

Puhtus

99.95%

Standard:

ASTM B708-98

Kvantitatiivne analüüs

Element

O

Si

H

C

Cr

Cu

Fe

Mg

Mn

Mo

Kontsentratsioon (≤PPM

100

25

10

30

7

6






astm_b708_tantalum_sputtering_target_99_95.jpg


TEILE VÕIB MEELDIDA

Nioobiumi pihustamise sihtmärk

Nioobiumi pihustamise sihtmärk

Vaata veel
WZr elektroodid

WZr elektroodid

Vaata veel
õhuke volframtraat

õhuke volframtraat

Vaata veel
Volframistiigel

Volframistiigel

Vaata veel
monel
Õmblusteta niklisulamist toru

Õmblusteta niklisulamist toru

Vaata veel